产品中心
设备用途
用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料，适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研制备。
设备组成
系统由真空腔室（外延室、进样室）、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。
外延室
极限真空优于：6.0x10-8Pa；
抽速：20分钟可达到6x10-3Pa；
靶材尺寸：4个x2英寸或6个x1英寸；
样品尺寸：2英寸x1片；
样品温度：800℃；
真空系统：离子泵系统；
进样室
极限真空优于：6x10-5Pa；
抽速：20分钟可达到：6x10-3Pa；
送样：磁力传递杆；
真空系统：分子泵系统；
其他
触摸屏点动控制：1套；
冷却水路系统：1套；
高能电子衍射仪：1套；
激光束扫描装置：1套；
氧等离子体发生器：1套；
激光器：1套（选配）。
公司：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
地址：沈阳市浑南新区新源街1号
销售电话：024-23826899、024-23826855
售后电话：024-23826838
传真：024-23826828
邮箱：sales@sky.ac.cn
网址：www.atlantiselektronik.com
开户行：建行沈阳浑南新区产业园分理处
账号：2100 1394 6010 5958 1266
纳税号：912101 0041 0581 2660
