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LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统
编号:2
类别:激光镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料,适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研制备。

     

    设备组成

        系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。

    外延室

    极限真空优于:6.0x10-8Pa

    抽速:20分钟可达到6x10-3Pa

    靶材尺寸:4x2英寸或6x1英寸;

    样品尺寸:2英寸x1片;

    样品温度:800℃;

    真空系统:离子泵系统;

    进样室

    极限真空优于:6x10-5Pa

    抽速:20分钟可达到:6x10-3Pa

    送样:磁力传递杆;

    真空系统:分子泵系统;

    其他

    触摸屏点动控制:1套;

    冷却水路系统:1套;

    高能电子衍射仪:1套;

    激光束扫描装置:1套;

    氧等离子体发生器:1套;

    激光器:1套(选配)。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    销售电话:024-23826899024-23826855

    售后电话:024-23826838

    传真:024-23826828

    邮箱:sales@sky.ac.cn

    网址:www.atlantiselektronik.com

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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