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首页 ? 产品中心 ? LED衬底及窗口片设备 ? 磁控溅射镀膜设备
设备用途
该产品可广泛应用于半导体、LED和光伏等行业，主要用于各种金属、半导体及介质材料的薄膜制备，可满足科研需要。
设备组成
该系统为单腔室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等组成。
系统由工控机和PLC实现控制，有自动和手动控制两种模式。除取放样品外，其它操作过程全部在触摸屏上实现；提供真空系统、溅射工艺设置、充放气系统等人机操作界面；在工控机上可通过配方设置参数，实现对程序工艺过程和设备参数的设置。
技术指标：
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型号 |
JGP-800 |
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溅射室极限真空 |
≤8.0×10-6Pa |
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恢复真空时间 |
系统从大气抽至1.0×10-3 Pa≤15min |
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均匀性 |
膜厚不均匀性≤±5%；片间不均匀性≤±5%；批次间不均匀性≤±5% |
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溅射真空室 |
圆筒形结构，尺寸Ф800mmx250mm |
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磁控溅射系统 |
永磁靶4支，靶材尺寸6英寸； 配1台进口电源（射频或直流脉冲可选）； 溅射速率：0.5～5埃/秒（靶材Al） |
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公转基片台 |
6英寸6片，（4英寸12片或3英寸16片）； 基片公转3～15转/分，连续可调，可选配公自转复合工件台 |
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光加热系统 |
样品加热温度：室温～250°C，连续可调； 基片温度不均匀性：≤±10°C； 控温方式为PID自动控温及数字显示，配备进口控温表 |
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工作气路 |
2路质量流量控制器气路 |
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抽气机组 |
低温泵（进口）、罗茨干泵机组、气动闸板阀（进口）、管路等 |
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真空测量 |
2个真空计（进口）对系统真空、工作真空及前级真空进行精确检测；真空度在工控机触膜屏上可直观显示；可准确监控溅射镀膜工艺过程的真空度 |
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控制系统 |
系统由工控机（触摸屏）和进口PLC实现对整个系统的控制 |
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占地面积 |
主机 |
1500×1000mm2 |
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电控柜 |
700×700mm2（一个） |
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