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首页 ? 产品中心 ? PVD镀膜设备 ? 离子束溅射镀膜设备
设备用途
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研制备。
设备组成
系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统、离子源及安装机台等部分组成。
极限真空度：≤6.6x10-5Pa；
抽速：40分钟可达到6.6x10-4Pa；
磁控溅射靶组件：2英寸x4套；
直流溅射电源：500Wx2套；
射频溅射电源：500Wx2套；
样品尺寸：φ30mmx6片；
样品台温度：600℃；
溅射离子枪：1套；
辅助离子枪：1套；
四工位转靶：1套；
质量流量控制器：3套；
分子泵系统：1套；
控制系统：触摸屏点动控制：样品公转、样品自转、基片挡板转动、样品控温、四工位转靶、质量流量控制器、真空计、直流溅射电源、射频溅射电源。
冷却水路系统：1套。
地址：沈阳市浑南新区新源街1号
销售电话：024-23826899、024-23826855
售后电话：024-23826838
传真：024-23826828
邮箱：sales@sky.ac.cn
网址：www.atlantiselektronik.com
开户行：建行沈阳浑南新区产业园分理处
账号：2100 1394 6010 5958 1266
纳税号：912101 0041 0581 2660
