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首页 ? 产品中心 ? PVD镀膜设备 ? 离子束溅射镀膜设备
设备用途
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研制备。
设备组成
系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统、离子源及安装机台等部分组成。
极限真空度:≤6.6x10-5Pa;
抽速:40分钟可达到6.6x10-4Pa;
磁控溅射靶组件:2英寸x4套;
直流溅射电源:500Wx2套;
射频溅射电源:500Wx2套;
样品尺寸:φ30mmx6片;
样品台温度:600℃;
溅射离子枪:1套;
辅助离子枪:1套;
四工位转靶:1套;
质量流量控制器:3套;
分子泵系统:1套;
控制系统:触摸屏点动控制:样品公转、样品自转、基片挡板转动、样品控温、四工位转靶、质量流量控制器、真空计、直流溅射电源、射频溅射电源。
冷却水路系统:1套。
地址:沈阳市浑南新区新源街1号
销售电话:024-23826899、024-23826855
售后电话:024-23826838
传真:024-23826828
邮箱:sales@sky.ac.cn
网址:www.atlantiselektronik.com
开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处
账号:2100 1394 6010 5958 1266
纳税号:912101 0041 0581 2660